الكريمات والمنظفات
محلول تنظيف البشرة بتأثير التقشير AHA + BHA 200 مل
محلول مُصاغ بأحماض AHA وBHA؛ ينقّي البشرة من الخلايا الميتة بلطف فينظف المسام ويشدّها، ويساعد على توحيد لون البشرة. وبنسبة أحماضه المنخفضة فهو مناسب للاستخدام اليومي.
- منقٍّ
- تضييق المسام
المكوّنات النجمية
- AHA (ألفا هيدروكسي أسيد)
- BHA (بيتا هيدروكسي أسيد)
وصف المنتج
محلول تنظيف البشرة بتأثير التقشير من Baga، المُصاغ بأحماض AHA وBHA، ينقّي الجلد الميت بلطف فيساعد البشرة على التنفس، وينظف المسام ويشدّها. يجدّد حمض الجليكوليك وحمض اللاكتيك سطح البشرة، بينما ينفذ حمض الساليسيليك داخل المسام ويدعم توازن الزهم. ويسهّل نفاذ السيرومات المستخدمة بعد التنظيف إلى البشرة؛ فيوفر تنظيفاً فعالاً للبشرة المعرضة للبقع وحب الشباب.
الفوائد
- حمض الجليكوليك وحمض اللاكتيك (AHA) ينقّيان البشرة من الخلايا الميتة بلطف ويجدّدان ملمسها
- حمض الساليسيليك (BHA) ينظف المسام بعمق ويشدّها
- زنك PCA يدعم توازن الدهون ويساعد على منع تكوّن حب الشباب
- النياسيناميد وألفا-أربوتين وحمض الكوجيك توحّد لون البشرة وتخفف من مظهر البقع
- يزيد من امتصاص السيرومات المستخدمة بعده ومن فعاليتها
- بنسبة أحماض منخفضة، مناسب لتنظيف البشرة يومياً
قائمة INCI
Aqua, Alcohol, Pentylene Glycol, Glycerin, Propylene Glycol, Panthenol, Polysorbate 20, Althaea Rosea Flower Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Aloe Barbadensis Leaf Juice, Olea Europaea Leaf Extract, Saccharide Isomerate, Zinc PCA, Alpha-Arbutin, Kojic Acid, Niacinamide, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Citric Acid, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Benzoic Acid, Allantoin, Salicylic Acid, Glycolic Acid, Lactic Acid, Triethanolamine, Phenethyl Alcohol
طريقة الاستخدام
يُطبَّق بلطف بواسطة قطنة على بشرة نظيفة صباحاً و/أو مساءً، ولا يحتاج إلى شطف. يُنصح باستخدام مرطب بعده. وبما أن تأثيره التقشيري قد يزيد من حساسية البشرة لأشعة الشمس، يُستخدم واقٍ من الشمس واسع الطيف (UVA/UVB) طوال فترة الاستخدام، حتى في أشهر الشتاء. يُجرَّب على منطقة صغيرة قبل الاستخدام الأول. غير مناسب للبشرة الحساسة وللحوامل والمرضعات وللأطفال دون سن 3 سنوات.
التواصل
طلب عرض أو عينة
تواصلوا معنا لطلبات الجملة والتصدير والتصنيع بعلامة خاصة.